[发明专利]用于稳定化学气相沉积反应器中的纤丝的方法及系统在审
申请号: | 201380072800.8 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN104981560A | 公开(公告)日: | 2015-10-14 |
发明(设计)人: | 秦文军;C·费罗;A·D·罗兹;J·C·古姆 | 申请(专利权)人: | GTAT公司 |
主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/44;C01B33/035 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 美国新罕*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在各种实施例中,本发明提供用于稳定化学气相沉积(CVD)反应器系统中的纤丝的系统、方法及装置。系统包括具有多个电连接的底板、自该底板延伸的纤丝对及连接该纤丝对的稳定件。各纤丝与该两个电连接电接触,且在该两个电连接间界定导电路径。稳定该等纤丝的方法包括提供该纤丝对,且将该纤丝对与至少一个稳定件连接。该稳定件可包括电绝缘材料。 | ||
搜索关键词: | 用于 稳定 化学 沉积 反应器 中的 纤丝 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积反应器系统,其包含:包含多个电连接的底板;自该底板延伸的纤丝对,各纤丝(i)与该等电连接中的两者电接触且(ii)在该两个电连接间界定导电路径;以及连接该纤丝对的稳定件。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的