[发明专利]水再生系统及脱盐处理装置、以及水再生方法有效

专利信息
申请号: 201380075018.1 申请日: 2013-03-29
公开(公告)号: CN105050963B 公开(公告)日: 2017-10-27
发明(设计)人: 铃木英夫;中小路裕;上村一秀;音在步积;寺崎健 申请(专利权)人: 三菱日立电力系统环保株式会社;三菱重工业株式会社
主分类号: C02F1/469 分类号: C02F1/469;B01D61/54;C02F5/00;C02F5/08;C02F5/14;H01G11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本神奈川县横*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 可靠地防止脱盐处理的再生工序中的水垢的析出。本发明的水再生系统(1)以及脱盐处理装置(4)具备脱盐部(10)、向被处理水供给防水垢剂的供给部(20)、以及控制部(40)。控制部(40)根据脱盐部(10)内的水垢成分的浓度,获取防水垢剂以及低离子浓度水中的至少一方的供给开始时间和供给停止时间,在供给开始时间与供给停止时间之间的期间使供给部(20)实施防水垢剂以及低离子浓度水中的至少一方的供给。
搜索关键词: 再生 系统 脱盐 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
一种水再生系统,包括脱盐处理装置,所述脱盐处理装置包括:脱盐部,其包括彼此相反极性地带电的一对对置的电极、位于该电极之间且能够供含有离子的被处理水流通的电极间流路、以及设置于各个所述电极的所述电极间流路侧的离子交换膜,所述脱盐部进行使所述离子吸附于所述电极的脱盐处理和使所述离子从所述电极脱离的再生处理;处理水排出路,其设置于所述脱盐部的下游侧,使在所述脱盐处理时去除了所述离子的处理水从所述脱盐部排出;浓缩水排出路,其设置于所述脱盐部的下游侧,使含有在所述再生处理时从所述电极放出的所述离子的浓缩水从所述脱盐部排出;供给部,其向所述脱盐部供给防水垢剂、以及成为水垢成分的所述离子即水垢成分离子的浓度比所述浓缩水低的低离子浓度水中的至少一方;以及控制部,其根据所述脱盐部内的所述水垢成分的浓度,获取所述供给部向所述脱盐部供给所述防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给开始时间、和所述供给部停止供给所述防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给停止时间,并在所述供给开始时间与所述供给停止时间之间的期间使所述供给部实施防水垢剂以及所述低离子浓度水中的至少一方的供给,所述供给部设置于所述脱盐部的上游,所述控制部根据所述水垢成分的浓度达到第一阈值的时间和所述被处理水在所述脱盐部中滞留的滞留时间获取所述供给开始时间,并且根据所述水垢成分的浓度达到第二阈值的时间和所述滞留时间获取所述供给停止时间,所述第二阈值为所述第一阈值的0.5倍以上且1倍以下的值。
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