[发明专利]吡唑基吡咯啉酮及其作为除草剂的用途在审
申请号: | 201380078772.0 | 申请日: | 2013-08-05 |
公开(公告)号: | CN105472986A | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
发明(设计)人: | J·E·波赫米尔;M·费德特;A·朗斯塔夫;J·A·莫里斯;T·R·戴森;M·B·霍特森;A·J·道灵;W·G·怀廷哈姆;A·J·达伦肯;P·J·德福莱恩;R·J·G·蒙迪埃;蜂巢主慈;A·J·汤普森;V·G·格帕尔萨慕斯拉姆 | 申请(专利权)人: | 先正达参股股份有限公司;先正达有限公司 |
主分类号: | A01N43/56 | 分类号: | A01N43/56;A01N43/90;C07D403/04;C07D409/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张敏 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: |
本发明涉及具有化学式(I)的吡咯酮化合物 |
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搜索关键词: | 吡唑 吡咯 及其 作为 除草剂 用途 | ||
【主权项】:
一种具有化学式(I)的除草化合物
其中X是选自S和O;Ra是选自氢、C1‑C6烷基以及C1‑C6卤代烷基;Rb是选自氢,甲酰基,羟基,卤素,硝基,氰基,C1‑C6烷基,C1‑C6氰基烷基,C3‑C6环烷基,C3‑C6氰基环烷基,C1‑C6卤代烷基,C1‑C6烷硫基,C1‑C6烷氧基,C1‑C6烷氧基C1‑C6烷基,C1‑C6烷硫基C1‑C6烷基,C1‑C6氰基烷氧基,C1‑C6卤代烷氧基,C1‑C6烷氧基C1‑C6烷氧基,C2‑C6烯基,C2‑C6炔基,C2‑C6氰基烯基,C2‑C6氰基炔基,C2‑C6烯氧基,C2‑C6炔氧基,C2‑C6卤代烯基,C2‑C6卤代炔基,C2‑C6卤代烯氧基,C2‑C6卤代炔氧基,C1‑C6烷氧基C2‑C6烯基,C1‑C6烷氧基C2‑C6炔基,C1‑C6烷基亚磺酰基,C1‑C6烷基磺酰基,C1‑C6卤代烷硫基,C1‑C6卤代烷基亚磺酰基,C1‑C6卤代烷基磺酰基,C1‑C6烷基磺酰基氧基,C1‑C6烷基羰基,C1‑C6卤代烷基羰基,C2‑C6烯基羰基,C2‑C6炔基羰基,C2‑C6卤代烯基羰基,C2‑C6卤代炔基羰基,三C1‑C6烷基甲硅烷基C2‑C6炔基,C1‑C6烷基酰胺基,基团R5R6N‑,基团R5C(O)N(R6)‑,基团R5S(O2)N(R6)‑,基团R5R6NSO2‑,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10芳基基团,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10芳氧基基团,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10苄基基团,任选地被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10苄氧基基团,任选地被从1至3个独立地选自C1‑C4烷基的基团取代的C3‑C6杂环基基团以及任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1‑C6烷基的基团取代的C3‑C6环烷基基团;并且其中当Rb是C2‑C6炔基、C2‑C6氰基炔基、C2‑C6卤代炔基或C1‑C6烷氧基C2‑C6炔基时,该炔基基团不直接附接至吡唑环;Rc是选自氢、卤素、氰基、C1‑C6烷基或C1‑C6卤代烷基;或Ra和Rb连同它们附接的氮和碳原子一起形成3‑7元饱和或部分不饱和环,该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1‑C6烷基和C1‑C6卤代烷基的基团取代;或Rb和Rc连同它们附接的碳原子一起形成3‑7元饱和或部分不饱和环,该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素、C1‑C6烷基和C1‑C6卤代烷基的基团取代;R1是C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基或C1‑C3烷氧基,并且R2是卤素或C1‑C3烷氧基,附带条件是R1和R2不都是C1‑C3烷氧基;R3选自卤素、羟基或以下基团中的任一个
R5和R6独立地选自氢、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基,或R5和R6连同它们附接的碳原子一起形成3‑6元饱和或部分不饱和环,该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1‑C6烷基的基团取代;R7和R8独立地选自氢,C1‑C6烷基,C1‑C6卤代烷基,C2‑C6烯基,C2‑C6炔基,可以是单环或双环的包括从1至4个独立地选自N、O和S的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素、C1‑C3烷基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3烷氧基的基团取代的C5‑C10杂芳基基团,任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的C6‑C10芳基基团,或R7和R8连同它们附接的原子一起形成3‑6元饱和或部分不饱和环,该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素或C1‑C6烷基的基团取代;R9选自C1‑C6烷基或任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1‑C3烷基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷基、以及C1‑C3卤代烷氧基的基团取代的苄基;或其N‑氧化物或盐形式。
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