[发明专利]具有纳米结构化表面的制品有效
| 申请号： | 201380081423.4 | 申请日： | 2013-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN105792953B | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | S·库代尔;R·德利约;G·托尔蒂西耶 | 申请（专利权）人： | 依视路国际公司;株式会社尼康 |
| 主分类号： | B08B17/06 | 分类号： | B08B17/06;G02B1/11;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 牛南辉;魏子翔 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括至少一个纳米结构化表面的制品，其中：所述纳米结构化表面由具有低于25mJ/m2，优选地为低于20mJ/m2的表面能的材料制成，并且包括限定出腔的相接的基元的阵列，所述基元的所述腔通过中间的固体20材料壁而被彼此分隔开，并且所述腔具有满足以下条件的平均高度(H)和平均半径(R)：R≥5nm，优选地R≥10nm；2R≤250nm，优选地R≤200nm，更好地R≤150nm，更优选地R≤100nm；以及H≤3R。本发明还涉及一种用于设计纳米结构化表面的方法，所述纳米结构化表面包括限定出腔的并置基元的阵列，所述腔通过固体30中间壁而彼此分隔开。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 纳米 结构 表面 制品 | ||
【主权项】：
1.一种制品，其包括至少一个纳米结构化表面，其中：‑所述纳米结构化表面由具有低于25mJ/m2的表面能的材料制成，并且包括限定出腔的相接的基元的阵列，所述基元的所述腔通过中间的固体材料壁而被彼此分隔开，并且向外界开口，并且‑所述腔具有满足以下条件的平均高度H和平均半径R：R≥5nm；R≤250nm；以及H≤3R，![]()
其中θadv是液体在由与所述纳米结构化表面相同的表面材料制成的平坦表面上的前进角，并且其中，所述制品具有等于或低于30％的下沉α，其中![]()
其中h是所述腔中间壁的被液体润湿的高度，H是所述腔的平均高度。
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