[发明专利]一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410003109.0 申请日: 2014-01-03
公开(公告)号: CN103887366B 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 张俊;杨平雄;黄玲;刘谭谭;褚君浩 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/032
代理公司: 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙)31257 代理人: 董红曼
地址: 200062 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法,其中铜铟铝硒薄膜的组成式为:CuIn1‑xAlxSe2,0≤x≤1,包括步骤:(1)依次使用丙酮、乙醇和去离子水对玻璃衬底进行超声清洗,清洗后置于去离子水中保存;(2)使用磁控溅射方法依次在玻璃衬底上沉积铜铟合金层、铝层、铜层,得到层状的金属薄膜前驱体;(3)将层状的金属薄膜前驱体和硒粉置于石墨盒中,进行后硒化处理,得到能带可调的铜铟铝硒薄膜。本发明通过控制溅射铜铟合金靶和铝靶的时间固定,而改变溅射铜靶的时间,从而获得不同组分比的铜铟铝硒薄膜,实现铜铟铝硒薄膜材料能带的调节。本发明方法简单方便,可实现铜铟铝硒薄膜的能带在微小范围内实现调节。
搜索关键词: 一种 能带 可调 铜铟铝硒 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法,其特征在于,所述铜铟铝硒薄膜为CuIn1‑xAlxSe2,其中,0≤x≤1,包括如下步骤:(1)清洗玻璃衬底:依次使用丙酮、乙醇和去离子水进行超声清洗,清洗后置于去离子水中保存;(2)使用磁控溅射方法依次在玻璃衬底上沉积铜铟合金层、铝层、铜层,得到层状的金属薄膜前驱体;(3)将所述层状的金属薄膜前驱体和硒粉置于石墨盒中,进行后硒化处理,得到所述能带可调的铜铟铝硒薄膜,其中,所述步骤(2)中,在玻璃衬底上依次沉积时,将金属铝层置于中间层,将金属铜层置于最顶层,通过调节溅射沉积铜层的时间,从而实现微调所述铜铟铝硒薄膜的组分比;所述步骤(3)中,所述后硒化处理的最高温度为530℃,在后硒化升温至530℃的过程中,在250℃时保温10min,在530℃时保温15~20min;所述铜铟铝硒薄膜中的各组分的摩尔比约为Cu:In:Al:Se≈1:0.8:0.2:2。
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