[发明专利]一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法有效
申请号: | 201410003109.0 | 申请日: | 2014-01-03 |
公开(公告)号: | CN103887366B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 张俊;杨平雄;黄玲;刘谭谭;褚君浩 | 申请(专利权)人: | 华东师范大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032 |
代理公司: | 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙)31257 | 代理人: | 董红曼 |
地址: | 200062 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法,其中铜铟铝硒薄膜的组成式为:CuIn1‑xAlxSe2,0≤x≤1,包括步骤:(1)依次使用丙酮、乙醇和去离子水对玻璃衬底进行超声清洗,清洗后置于去离子水中保存;(2)使用磁控溅射方法依次在玻璃衬底上沉积铜铟合金层、铝层、铜层,得到层状的金属薄膜前驱体;(3)将层状的金属薄膜前驱体和硒粉置于石墨盒中,进行后硒化处理,得到能带可调的铜铟铝硒薄膜。本发明通过控制溅射铜铟合金靶和铝靶的时间固定,而改变溅射铜靶的时间,从而获得不同组分比的铜铟铝硒薄膜,实现铜铟铝硒薄膜材料能带的调节。本发明方法简单方便,可实现铜铟铝硒薄膜的能带在微小范围内实现调节。 | ||
搜索关键词: | 一种 能带 可调 铜铟铝硒 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法,其特征在于,所述铜铟铝硒薄膜为CuIn1‑xAlxSe2,其中,0≤x≤1,包括如下步骤:(1)清洗玻璃衬底:依次使用丙酮、乙醇和去离子水进行超声清洗,清洗后置于去离子水中保存;(2)使用磁控溅射方法依次在玻璃衬底上沉积铜铟合金层、铝层、铜层,得到层状的金属薄膜前驱体;(3)将所述层状的金属薄膜前驱体和硒粉置于石墨盒中,进行后硒化处理,得到所述能带可调的铜铟铝硒薄膜,其中,所述步骤(2)中,在玻璃衬底上依次沉积时,将金属铝层置于中间层,将金属铜层置于最顶层,通过调节溅射沉积铜层的时间,从而实现微调所述铜铟铝硒薄膜的组分比;所述步骤(3)中,所述后硒化处理的最高温度为530℃,在后硒化升温至530℃的过程中,在250℃时保温10min,在530℃时保温15~20min;所述铜铟铝硒薄膜中的各组分的摩尔比约为Cu:In:Al:Se≈1:0.8:0.2:2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东师范大学,未经华东师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410003109.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于LED诱导荧光光谱的咖啡浓度检测装置
- 下一篇:一种变速箱悬置装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的