[发明专利]一种多孔硅模板的制备方法

摘要

本发明提供了一种多孔硅模板的制备方法；所述方法包括如下步骤：步骤一，取HF、H₂O₂、去离子水，充分混合，得刻蚀液；步骤二，无光照条件下，将硅衬底放入所述刻蚀液中，之后放在热板上保持恒温，浸泡；步骤三，将硅衬底取出，用去离子水反复冲洗，吹干，即可得到多孔硅模板。本发明采用金属催化刻蚀（MCE）的方法，制备倒金字塔形或圆形开口的多孔硅模板，其方法成本低，不需要昂贵的设备。本发明方法得到的多孔硅模板具有较好的表面形貌和减反射效果。在常温下不加电流的情况下制备多孔硅模板，通过控制反应时间可以控制图形的大小，有比较大的应用潜力。

主权项

一种多孔硅模板的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：步骤一，取HF、H₂O₂、去离子水，充分混合，得刻蚀液；步骤二，无光照条件下，将硅衬底放入所述刻蚀液中，之后放在热板上保持恒温，浸泡；步骤三，将硅衬底取出，用去离子水反复冲洗，吹干，即可得到多孔硅模板。