[发明专利]用于光刻设备投影物镜的像质补偿机构有效

专利信息
申请号: 201410011640.2 申请日: 2014-01-10
公开(公告)号: CN104777717B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 曹昌智;梁任成 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本发明公开一种用于光刻设备的折反射物镜像质补偿机构,其特征在于,其中包括像质补偿机构,用于补偿投影像质。较之现有技术方案,本发明能够实现1、能同时检测补偿反射镜反射表面的面型与温度;2、在对补偿镜面型进行控制的同时,可以检测当前反射表面面型,进行闭环控制提高调整精度;3、本发明提供的方案可以直接检测反射表面的面型再在背后补偿,从而不需要如上述专利所提出的需要复杂的蜂巢状结构。
搜索关键词: 用于 光刻 设备 投影 物镜 补偿 机构
【主权项】:
一种用于光刻设备的投影物镜,其特征在于,其中包括:像质补偿机构,用于补偿投影像质,所述像质补偿机构包括:宽带光源,用于提供一宽光谱探测光束,位于光纤的一端;若干所述光纤,所述光纤分布于反射镜反射表面,所述光纤上刻蚀有布拉格光栅,所述光纤每间隔一定距离刻蚀一组布拉格光栅,所述一组布拉格光栅包含两个布拉格光栅;光谱仪,位于所述光纤的另一端,用于探测经所述布拉格光栅滤波后的宽光谱探测光束;运算执行机构,用于根据所述宽光谱探测光束获得所述反射镜反射表面的面型与温度分布,对所述反射镜背面进行外力校正。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410011640.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top