[发明专利]相变存储单元的制备方法有效
申请号: | 201410016750.8 | 申请日: | 2014-01-15 |
公开(公告)号: | CN104779346B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 柳鹏;吴扬;李群庆;姜开利;王佳平;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种相变存储单元的制备方法,包括在一基底一表面设置至少一碳纳米管线,所述碳纳米管线的轴向平行于所述基底的表面;弯折所述至少一碳纳米管线,形成一弯折部;设置一第一电极、第二电极及一第三电极,所述第一电极、第二电极分别设置于所述弯折部的两侧且与所述碳纳米管线电连接,所述第三电极与所述碳纳米管线的弯折部间隔设置;以及沉积一相变层至少部分覆盖所述弯折部,并且与所述第三电极电连接。 | ||
搜索关键词: | 相变 存储 单元 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种相变存储单元的制备方法,包括:在一基底一表面设置一碳纳米管线,所述碳纳米管线的轴向平行于所述基底的表面;将所述碳纳米管线弯折形成一弯折部;设置一第一电极、第二电极及一第三电极,所述第一电极、第二电极分别与所述碳纳米管线的两端电连接,所述第三电极与所述碳纳米管线的弯折部间隔设置;以及沉积一相变层至少部分覆盖所述弯折部,并且与所述第三电极电连接。
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