[发明专利]成膜方法和成膜装置

摘要

本发明提供成膜方法和成膜装置。成膜方法包括以下步骤输入步骤，使具有多个基板载置部的旋转台间歇性地旋转而将多个基板载置部依次配置于输入输出区域，将基板依次载置到基板载置部；成膜步骤，反复多次进行通过使旋转台旋转而使多个基板公转、并且将彼此反应的反应气体交替地向基板表面供给的循环，而在基板表面上形成薄膜；改性步骤，对通过使旋转台间歇性地旋转而被依次配置在与输入输出区域相邻的加热区域中的基板的薄膜进行改性；以及输出步骤，接着改性步骤，将在改性步骤中改性了薄膜的基板依次配置在输入输出区域，并将所配置的基板依次输出。

主权项

一种成膜方法，用于对基板进行成膜，其中，该成膜方法包括以下步骤：输入步骤，其使沿圆周方向具有多个基板载置部的旋转台间歇性地旋转而将多个上述基板载置部依次配置于输入输出区域，并将基板依次载置于所配置的上述基板载置部；成膜步骤，反复多次进行通过使上述旋转台旋转而使上述基板公转、并且将彼此反应的反应气体交替向基板表面供给的循环，而在基板上层叠上述反应气体的反应生成物，从而在基板表面上形成薄膜；改性步骤，对通过使上述旋转台间歇性地旋转而被依次配置在与上述输入输出区域相邻的加热区域中的基板分别加热，对上述薄膜进行改性；以及输出步骤，接着改性步骤，通过间歇性地旋转上述旋转台，将在上述改性步骤中改性了上述薄膜的基板依次配置在上述输入输出区域，并将所配置的基板依次输出，其中，在上述改性步骤中，对上述多个基板中的一个基板进行加热而进行改性，接着旋转上述旋转台而将与上述一个基板相邻的另一个基板配置于上述加热区域，接着对所配置的上述另一个基板进行改性，在上述输出步骤中，在利用上述改性步骤对上述另一个基板进行改性的期间，将在该改性步骤中改性了的上述一个基板输出。