[发明专利]一种涂布装置有效
| 申请号： | 201410019884.5 | 申请日： | 2014-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103771719A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 焦宇 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂布装置，该涂布装置包括喷嘴和基台，所述涂布装置还包括检测单元，所述检测单元用于检测所述喷嘴的下端面与所述基台之间的间隙距离。本发明能够检测喷嘴与基台之间的间隙距离是否异常，并且能够调节喷嘴高度至正常范围，从而能够保证涂布工艺正常进行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 | ||
【主权项】：
一种涂布装置，所述涂布装置包括喷嘴和基台，其特征在于，所述涂布装置还包括检测单元，所述检测单元用于检测所述喷嘴的下端面与所述基台之间的间隙距离。
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