[发明专利]半导体结构及其制造方法在审
申请号: | 201410020221.5 | 申请日: | 2014-01-16 |
公开(公告)号: | CN104716120A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 郑世杰;卢东宝 | 申请(专利权)人: | 南茂科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L21/48 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种半导体结构包括:装置;在所述装置上方的导电衬垫;及安置在所述导电衬垫上的Ag1-xYx合金柱,其中所述Ag1-xYx合金的Y包含以任意重量百分比与Ag形成完全固溶体的金属,且其中所述Ag1-xYx合金的X在0.005至0.25的范围内。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体结构,其特征在于其包含:装置;在所述装置上方的导电衬垫;及安置在所述导电衬垫上的Ag1‑xYx合金柱,其中所述Ag1‑xYx合金的Y包含以任意重量百分比与Ag形成完全固溶体的金属,且其中所述Ag1‑xYx合金的X在0.005至0.25的范围内。
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