[发明专利]半导体结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410020221.5 申请日: 2014-01-16
公开(公告)号: CN104716120A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 郑世杰;卢东宝 申请(专利权)人: 南茂科技股份有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 上海翰鸿律师事务所 31246 代理人: 李佳铭
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种半导体结构包括:装置;在所述装置上方的导电衬垫;及安置在所述导电衬垫上的Ag1-xYx合金柱,其中所述Ag1-xYx合金的Y包含以任意重量百分比与Ag形成完全固溶体的金属,且其中所述Ag1-xYx合金的X在0.005至0.25的范围内。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体结构,其特征在于其包含:装置;在所述装置上方的导电衬垫;及安置在所述导电衬垫上的Ag1‑xYx合金柱,其中所述Ag1‑xYx合金的Y包含以任意重量百分比与Ag形成完全固溶体的金属,且其中所述Ag1‑xYx合金的X在0.005至0.25的范围内。
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