[发明专利]遮光阵列透镜及其制造方法无效
| 申请号： | 201410022388.5 | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103744133A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 沈伟;李远林 | 申请（专利权）人： | 峻立科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 张雅军 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种遮光阵列透镜包含一个本体、多个光学有效区及一个遮光区，该本体包括一个顶面及一个底面，所述光学有效区设置于本体中且自顶面延伸至底面，光线可通过光学有效区，该遮光区自本体顶面向下凹入设置于本体中，该遮光区包括多个围绕界定光学有效区的内周面、一个邻近本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于内周面与外周面间的容墨槽，及一个填于容墨槽中的遮光墨层，遮光墨层的厚度小于容墨槽的深度，由于填墨区域被限制而不会遮蔽光学有效区，且在容墨槽中的填墨位置可允许较大的位置偏移，降低对定位精密度的需求，确实能提高良率与降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 遮光 阵列 透镜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种遮光阵列透镜，包含一个本体及多个光学有效区，该本体包括一个顶面及一个底面，所述光学有效区设置于该本体中且自该顶面延伸至该底面，光线可通过所述光学有效区；其特征在于：该遮光阵列透镜还包含一个遮光区，该遮光区自该本体顶面向下凹入设置于该本体中，该遮光区包括多个围绕界定所述光学有效区的内周面、一个邻近该本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于所述内周面与该外周面间的容墨槽，及一个填于该容墨槽中的遮光墨层，该遮光墨层的厚度小于该容墨槽的深度。
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