[发明专利]一种用于浸没式光刻机的流体限制机构在审
| 申请号： | 201410024987.0 | 申请日： | 2014-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN104793466A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | 赵丹平;聂宏飞;张洪博;张崇明 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于浸没式光刻机的流体限制机构，所述用于浸没式光刻机的流体限制机构在原有流体限制机构中增加了浸液密封装置，该浸液密封装置通过开口向外吹气，在流体限制机构与投影物镜之间形成空气射流，在自由液面上方，形成了阻挡外界空气接触自由液面的气“帘”，防止了由于浸液接触到外界空气，而影响浸没式光刻机曝光质量的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 浸没 光刻 流体 限制 机构 | ||
【主权项】：
一种用于浸没式光刻机的流体限制机构，所述流体限制机构，用于形成光刻机工件台的浸没式曝光工作环境，其特征在于，所述流体限制机构包括有浸液密封装置，用于在浸液上方阻挡外界环境对所述浸没式曝光工作环境的影响。
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