[发明专利]图形化装置和形成抗刻蚀图形的方法有效
| 申请号： | 201410025114.1 | 申请日： | 2014-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN104793468B | 公开（公告）日： | 2017-07-14 |
| 发明（设计）人： | 伍强;胡华勇;刘畅;居建华;李国锋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图形化装置和形成抗刻蚀图形的方法，其中，所述图形化装置包括一个或多个喷射单元，所述喷射单元适于沿扫描方向喷射抗刻蚀液体至晶圆表面；一个或多个光照单元，所述光照单元适于沿扫描方向照射晶圆表面的抗刻蚀液体，使得晶圆表面的抗刻蚀液体固化，形成抗刻蚀图形；控制模块，所述控制模块适于控制所述一个或多个喷射单元的运动和喷射状态、以及控制所述一个或多个光照单元的运动和照射状态。本发明图形化装置和形成抗刻蚀图形的方法的成本低，产量高。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 化装 形成 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
一种图形化装置，其特征在于，包括：多个喷射单元，所述喷射单元适于沿扫描方向喷射抗刻蚀液体至晶圆表面，所述多个喷射单元构成多个喷射组，每个喷射组内的多个喷射单元按行列方式排布，所述列垂直于扫描方向，所述行与扫描方向具有夹角；各个喷射组中，同行不同列的喷射单元之间沿垂直于喷射扫描方向的周期间距各不相同；多个光照单元，所述光照单元适于照射晶圆表面的抗刻蚀液体，使得晶圆表面的抗刻蚀液体固化，形成抗刻蚀图形；控制模块，所述控制模块适于控制所述多个喷射组中的多个喷射单元的运动和喷射状态、以及控制所述多个光照单元的运动和照射状态。
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