[发明专利]用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子及其制备方法和用途无效
| 申请号： | 201410028026.7 | 申请日： | 2014-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN103756395A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 王冬霞 | 申请（专利权）人： | 上海赛肯森材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D7/00 | 分类号： | C09D7/00 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人： | 李颖薇 |
| 地址： | 200092 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子及其制法和用途，为由聚合物以及含硅无机材料复合形成的纳米粒子，所述的聚合物为带硅氧烷基团的聚合物，所述的无机材料为含硅氧烷基团的单体，该含硅氧烷基团的单体与聚合物中的硅氧烷基团以化合键结合形成有机-无机复合纳米杂化粒子。优点是：采用含有硅氧烷基团的单体与聚合物的硅氧烷基团发生水解反应形成化合键的方法制得有机-无机纳米杂化粒子，使得游离的二氧化硅得以较好控制，聚合物可以采用相对简单的多次逐步聚合工艺，便于工业生产，且由本发明的纳米杂化粒子制备的涂层具有良好的光学性质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 涂料 组合 纳米 粒子 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
一种用于减反射涂料组合物的纳米杂化粒子，为由聚合物以及含硅无机材料复合形成的纳米粒子，其特征在于：所述的聚合物为带硅氧烷基团的聚合物，所述的无机材料为含硅氧烷基团的单体，该含硅氧烷基团的单体与聚合物中的硅氧烷基团以化合键结合形成有机‑无机复合纳米杂化粒子。
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