[发明专利]磁记录介质的制造方法在审
| 申请号： | 201410028454.X | 申请日： | 2014-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN103971706A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 冈部健彦;藤克昭 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/725 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李照明;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁记录介质的制造方法，在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层。其中，所述润滑层是按如下方式形成的，即：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触的方式，在所述被积层体上涂敷第1润滑剂；之后，使用溶解于有机溶媒的第2润滑剂，在所述被积层体上涂敷润滑剂。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种磁记录介质的制造方法，在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层，其中：所述润滑层是按如下方式形成的，即：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触的方式，在所述被积层体上涂敷第1润滑剂；之后，使用溶解于有机溶媒的第2润滑剂，在所述被积层体上涂敷润滑剂。
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