[发明专利]用于准分子激光光束整形的衍射光学元件设计方法有效
申请号: | 201410029948.X | 申请日: | 2014-01-23 |
公开(公告)号: | CN103777472A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 朱菁;王健;黄惠杰;张方;杨宝喜;陈明;李璟;魏张帆 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/09;G02B27/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
一种用于准分子激光光束整形的衍射光学元件设计方法,该方法包括下列步骤:测量入射到衍射光学元件的光束的空间相干长度L;计算衍射光学元件中位相单元的尺寸l;依据入射到衍射光学元件的光束的空间相干长度L,确定衍射光学元件中一个设计单元的周期d;等间隔采样所需远场光强分布,并计算远场振幅分布矩阵Aout;计算设计所需的入射光振幅分布矩阵Ain;采用盖师贝格-撒克斯通算法设计一个设计单元的位相分布矩阵 |
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搜索关键词: | 用于 准分子激光 光束 整形 衍射 光学 元件 设计 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于准分子激光光束整形的衍射光学元件设计方法,其特征在于该方法包括下列步骤:①测量入射到衍射光学元件(3)的光束的空间相干长度L;②计算衍射光学元件(3)中位相单元的尺寸l;③依据入射到衍射光学元件(3)的光束的空间相干长度L,确定衍射光学元件(3)中一个设计单元(301)的周期d;④等间隔采样所需远场光强分布,并计算远场振幅分布矩阵Aout;⑤计算设计所需的入射光振幅分布矩阵Ain;⑥采用盖师贝格-撒克斯通算法设计一个设计单元(301)的位相分布矩阵
;⑦将
周期化得到完整的衍射光学元件(3)的位相分布矩阵;⑧评估所设计的衍射光学元件(3)的准分子激光光束整形性能。
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