[发明专利]用于蚀刻机台的喷酸装置无效
| 申请号： | 201410029986.5 | 申请日： | 2014-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN103787582A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 吴前锋 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 赵根喜;李昕巍 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种喷酸装置，用于蚀刻机台，所述蚀刻机台具有中央腔体和蚀刻腔室，且所述中央腔室与所述蚀刻腔室之间具有卷门，所述喷酸装置包括：酸性液体源，存储有酸性液体；连接管路，连接于所述酸性液体源以传输所述酸性液体；喷射装置，设置于所述连接管路末端，用以向所述卷门喷射所述酸性液体以避免在所述卷门上形成结晶。本发明能够避免在中央腔室与蚀刻腔室之间的卷门上形成结晶。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 机台 装置 | ||
【主权项】：
一种喷酸装置，用于蚀刻机台，所述蚀刻机台具有中央腔体和蚀刻腔室，且所述中央腔室与所述蚀刻腔室之间具有卷门，其特征在于，所述喷酸装置包括：酸性液体源，存储有酸性液体；连接管路，连接于所述酸性液体源以传输所述酸性液体；喷射装置，设置于所述连接管路末端，用以向所述卷门喷射所述酸性液体以避免在所述卷门上形成结晶。
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