[发明专利]一种监控晶圆的使用方法

摘要

本发明公开了一种监控晶圆及其制备方法，其中该监控晶圆具有外盒结构，所述外盒结构的内边缘与外边缘为同心图形。本发明通过将单层刻蚀得到的具有外盒结构的晶圆作为监控晶圆，由于现有技术中包括外盒结构和内盒结构需要经过两层刻蚀得到才能得到，而该监控晶圆只具有外盒结构，即进行单层刻蚀即可得到，单层刻蚀就不会有两层图形之间的套准误差，能够实现在X方向和Y方向的中心值均为零，具有明确的目标值，当机台的目标值出现漂移等异常情况时，可以及时确认和调整。当已有的监控晶圆出现破损时，可以立即用具有相同外盒结构的晶圆进行替换，具有可替代性。

主权项

1.一种监控晶圆的使用方法，其特征在于，包括：在对机台进行overlay测量工艺稳定性监控时，采用通过单层刻蚀得到的具有外盒结构的监控晶圆，当所述机台上正在使用的所述监控晶圆损坏时，用具有相同所述外盒结构的监控晶圆替代即可；其中，所述外盒结构的外边缘用S1表示，内边缘用S2表示，x1’为所述外盒结构的右侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，x2’为所述外盒结构的左侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，y1’为所述外盒结构的上侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，y2’为所述外盒结构的下侧外边缘S1与内边缘S2之间的距离，得到的检测结果为：X方向：(x2’‑x1’)/2，Y方向：(y2’‑y1’)/2，所述监控晶圆的图形的检测结果的目标值为零；其中，所述外盒结构的内边缘与外边缘为同心图形。