[发明专利]基于超结漏场板的AlGaN/GaN高压器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201410033431.8 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN103762235A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 冯倩;杜锴;杜鸣;张春福;梁日泉;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/41;H01L21/335;H01L21/28
代理公司: 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 代理人: 郭官厚
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于超结漏场板的AlGaN/GaN高压器件及其制作方法,高压器件的结构从下至上依次包括衬底、GaN缓冲层、本征GaN(或AlGaN)沟道层、AlN隔离层和AlGaN势垒层,AlGaN势垒层上有源极、栅极和复合漏极,复合漏极包括:漏极和漏极场板,在栅源之间、栅漏之间还形成有线性AlGaN层、柵源场板、P型GaN(或InGaN)层、基极。本发明的有益之处在于:器件导通时第一、第二和第三区域的2DEG浓度增加,电阻减小,降低了器件导通电阻;器件截止时第一区域的2DEG减小,第二区域的2DEG与器件导通时相同,增加了器件耗尽区的宽度,改变了电场分布,提高了器件击穿电压;本发明采用复合漏极结构和栅源场板,确保了电场峰值不会出现在漏极边缘和栅靠近源的边界处,提高了击穿电压。
搜索关键词: 基于 超结漏场板 algan gan 高压 器件 及其 制作方法
【主权项】:
基于超结漏场板的AlGaN/GaN高压器件,其特征在于,从下至上依次包括:衬底、GaN缓冲层、本征GaN沟道层或者AlGaN沟道层、AlN隔离层和AlGaN势垒层,AlGaN势垒层上沿水平方向依次有:源极、栅极和复合漏极,所述复合漏极包括:漏极、由所述漏极同时向上和向栅极方向延伸形成的漏极场板,在源极与栅极之间、栅极与复合漏极之间的AlGaN势垒层上方外延有线性AlGaN层,漏极场板在线性AlGaN层的上方,所述栅极还向源极方向延伸形成有与线性AlGaN层上表面接触的柵源场板,栅极与复合漏极之间的线性AlGaN层上外延有P型GaN外延层,且P型GaN外延层上有与栅极电连接的基极,栅极与复合漏极之间的线性AlGaN层、P型GaN外延层的宽度依次减小;所述AlGaN势垒层由下层的i型AlGaN层和上层的n型AlGaN层组成;所述源极、栅极、复合漏极和基极的上表面还形成有加厚电极,加厚电极的两侧均形成有钝化层。
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