[发明专利]一种全息光栅的曝光方法及曝光光路

摘要

本发明公开了一种全息光栅的曝光方法及曝光光路，曝光方法包括调节两个曝光光源的位置，形成曝光光路的步骤：（1）确定两个曝光光源的初始位置；（2）计算仿真的初始光路工作后形成光栅的成像质量参数；（3）在初始光路中设置补偿镜；（4）根据补偿镜的位置调节曝光光源的位置至新位置；（5）计算仿真的新光路工作后形成光栅的成像质量参数；（6）判断步骤（5）的成像质量参数与步骤（2）的成像质量参数的差值是否相当。在是相当的条件下，将新位置作为曝光光源的最终位置；将新位置下对应的新光路作为最终的曝光光路。本发明的曝光方法及曝光光路，可在不影响光栅制作要求和成像要求的前提下有效地解决曝光光源之间的距离过近的问题。

主权项

一种全息光栅的曝光方法，利用两个曝光光源发出两束相干光，在光栅基底上进行干涉曝光；其特征在于：包括调节两个曝光光源的位置，形成曝光光路的步骤：（1）根据全息光栅的设计要求和成像质量要求确定所述两个曝光光源的初始位置；（2）采用光学设计软件仿真曝光光源位于初始位置时的初始光路，计算仿真的初始光路工作后形成光栅的成像质量参数；（3）在初始光路中设置补偿镜；（4）根据所述补偿镜的位置调节曝光光源的位置至新位置，所述新位置满足：曝光光源位于新位置时，透过所述补偿镜的成像点为所述初始位置；（5）采用光学设计软件仿真设置有补偿镜，曝光光源位于新位置时的新光路，计算仿真的新光路工作后形成光栅的成像质量参数；（6）判断所述步骤（5）中的成像质量参数与所述步骤（2）中的成像质量参数的差值是否小于等于设定阈值，如是，则进入步骤（7）；如否，则调节补偿镜的位置，并返回步骤（4）‑（5）；（7）将新位置作为曝光光源的最终位置；将曝光支路上设置有补偿镜，曝光光源位于新位置的新光路作为最终的曝光光路。