[发明专利]光学断层成像装置及其控制方法有效
| 申请号： | 201410042724.2 | 申请日： | 2014-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN103961061A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 正木俊文;青木博;坂川幸雄 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00;A61B3/14;A61B3/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了光学断层成像装置及其控制方法。光学断层成像装置包括测量光光路长度改变单元，其被配置为改变测量光的光路长度。在物体的多个成像部位（例如，被检者眼睛的前眼部的部位和被检者眼睛的眼底的部位）中的任何一个被选择的情况下，光学断层成像装置可根据与所选择的成像部位相对应的断层图像的成像范围的大小来控制测量光光路长度改变单元。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 断层 成像 装置 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种光学断层成像装置，被配置为基于来自用测量光照射的物体的返回光和与该测量光相对应的参照光组合成的光来获得该物体的断层图像，该光学断层成像装置包括：测量光光路长度改变单元，被配置为改变所述测量光的光路长度；选择单元，被配置为选择所述物体的多个成像部位中的任何一个；以及控制单元，被配置为根据与所选择的成像部位相对应的断层图像的成像范围的大小来控制所述测量光光路长度改变单元。
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