[发明专利]一种氮化硼纳米孔传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410051811.4 申请日: 2014-02-14
公开(公告)号: CN103868969A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 周智;胡颖;单欣岩;陆兴华 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: G01N27/403 分类号: G01N27/403;B82Y15/00;B82Y40/00
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 王艺
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及基于固态纳米孔的分子或离子探测技术领域,尤其涉及一种氮化硼纳米孔传感器及其制造方法。氮化硼纳米孔传感器,其特征在于,包括基材,以及设置在基材上的氮化硼薄膜,所述氮化硼薄膜上设置有纳米孔,所述基材上设置有与所述纳米孔连通的通孔。本申请通过在原子层厚度的氮化硼薄膜上设置纳米孔,且经过处理后的氮化硼薄膜具有良好的亲水性,进而提高了纳米孔传感器的亲水性。
搜索关键词: 一种 氮化 纳米 传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种氮化硼纳米孔传感器,其特征在于,包括基材,以及设置在基材上的氮化硼薄膜,所述氮化硼薄膜上设置有纳米孔,所述基材上设置有与所述纳米孔连通的通孔。
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