[发明专利]一种改性水滑石稳定的AKD乳液施胶剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201410054414.2 | 申请日： | 2014-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN103774498A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 李国栋;刘温霞;王慧丽;于得海;赵奇 | 申请（专利权）人： | 齐鲁工业大学 |
| 主分类号： | D21H21/16 | 分类号： | D21H21/16 |
| 代理公司： | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人： | 袁敬清 |
| 地址： | 250399 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种改性水滑石稳定的AKD乳液施胶剂及其制备方法，属于造纸施胶剂乳化技术领域。本发明的改性水滑石稳定AKD乳液施胶剂，由氨基酸原位插层水滑石、聚乙烯亚胺和去离子水组成的水相，和AKD组成；解决了水滑石无法用于乳化稳定AKD的技术难题；为获得AKD乳液施胶剂提供了一种新的乳化稳定方式。用本发明的氨基酸原位插层水滑石和聚乙烯亚胺联合稳定的AKD乳液施胶剂，分散性好、稳定性好且施胶效率高；既可用作浆内施胶剂，又可用作表面施胶剂，且用量少；可大幅提高纸和纸板的抗水性，且具有施胶效果好、熟化速度快的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改性 滑石 稳定 akd 乳液 施胶剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种改性水滑石稳定AKD乳液施胶剂，其特征在于，由氨基酸原位插层水滑石、聚乙烯亚胺和去离子水组成的水相，和AKD组成；AKD与水相的质量比为1:5～10；氨基酸原位插层水滑石与AKD的质量比为1:50～200；聚乙烯亚胺与AKD的质量比为1:100～1000。
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