[发明专利]铁氧体薄膜形成用组合物及铁氧体薄膜的形成方法无效
申请号: | 201410055661.4 | 申请日: | 2014-02-19 |
公开(公告)号: | CN104078189A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 土井利浩;樱井英章;曽山信幸;中村贤蔵;五十岚和则 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | H01F10/20 | 分类号: | H01F10/20;H01F41/24 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种铁氧体薄膜形成用组合物及铁氧体薄膜的形成方法。该铁氧体薄膜形成用组合物为用于通过溶胶-凝胶法形成NiZn铁氧体、CuZn铁氧体、NiCuZn铁氧体薄膜的组合物,上述组合物含有金属原料及含N-甲基吡咯烷酮的溶剂,在将上述组合物设为100质量%时,N-甲基吡咯烷酮的比例为30~60质量%。 | ||
搜索关键词: | 铁氧体 薄膜 形成 组合 方法 | ||
【主权项】:
一种铁氧体薄膜形成用组合物,用于通过溶胶‑凝胶法形成以(Ni1‑xZnxO)t(Fe2O3)s、(Cu1‑xZnxO)t(Fe2O3)s或(Ni0.80‑yCu0.20ZnyO)t(Fe2O3)s表示组成的铁氧体薄膜,其中,所述x满足0<x<1,所述y满足0<y<0.80,所述s、t分别满足0.95≤s≤1.05、0.95≤t≤1.05,且满足s+t=2,该组合物含有:金属原料、及含N‑甲基吡咯烷酮的溶剂,将所述组合物总量设为100质量%时,所述N‑甲基吡咯烷酮的比例为30~60质量%。
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