[发明专利]一种双扩散炉管系统在审
申请号: | 201410060306.6 | 申请日: | 2014-02-21 |
公开(公告)号: | CN103938273A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 秦贵明;裴雷洪;俞玮 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C30B31/06 | 分类号: | C30B31/06 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 吴俊 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种双扩散炉管系统,系统主要包括:前开口接口机械标准子系统、第一炉管和规格小于第一炉管的第二炉管;通过前开口接口机械标准子系统对若干个被预定的晶圆的批次数量进行判断;若批次数量大于2,则该若干个被预定的晶圆全部被运送至第一炉管中进行后续处理;若批次数量小于或等于2,则该若干个被预定的晶圆全部被运送至第二炉管中进行后续处理。本发明通过的一大一小两个独立的炉管设备系统的使用,当生产批量不超过两批的情况下,可以降低反应制成气体的消耗,降低了成本;还可减少模拟晶圆消耗,使模拟晶圆循环的周期变长,从而延长模拟晶圆的使用寿命;还能使工艺时间大幅度的缩短。 | ||
搜索关键词: | 一种 扩散 炉管 系统 | ||
【主权项】:
一种双扩散炉管系统,其特征在于,所述系统主要包括:前开口接口机械标准子系统、第一炉管和规格小于所述第一炉管的第二炉管;通过所述前开口接口机械标准子系统对若干个被预定的晶圆的批次数量进行判断;若所述批次数量大于2,则该若干个被预定的晶圆全部被运送至所述第一炉管中进行后续处理;若所述批次数量小于或等于2,则该若干个被预定的晶圆全部被运送至所述第二炉管中进行后续处理。
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