[发明专利]光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法

摘要

本发明涉及一种光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法。一种共聚物，其包含共聚单体与具有式（I）的单体的聚合产物其中c是0、1、2、3、4或5，Ra是H、F、‑CN、C1‑10烷基或C1‑10氟烷基；Rx和Ry每个独立地是未取代的或取代的C1‑10线型或支化的烷基基团、未取代或取代的C3‑10环烷基基团、未取代或取代的C3‑10烯基烷基基团、或未取代或取代的C3‑10炔基烷基基团，其中Rx和Ry一起任选地形成环；Rz是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C6‑20芳基基团，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C3‑C20杂芳基，其中C6‑20芳基基团或C3‑C20杂芳基可任选地被进一步取代。本发明还描述了一种含有所述共聚物的光刻胶、具有所述光刻胶层的已涂覆的基材、和采用所述光刻胶制备电子器件的方法。

主权项

一种共聚物，其包含以下物质的聚合产物：具有式(I)的酸‑可脱保护单体和共聚单体：其中c是0、1、2、3、4或5，Ra是H,F,‑CN,C1‑10烷基或C1‑10氟烷基；Rx是未取代的或取代的C1‑10线型或支化的烷基、未取代或取代的C3‑10环烷基、未取代或取代的C3‑10烯基烷基、或未取代或取代的C3‑10炔基烷基，其中Rx和Ry一起任选地形成环；Ry是氟取代的C3‑6线型烷基；和Rz是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C6‑20芳基，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C3‑C20杂芳基，其中C6‑20芳基基团或C3‑C20杂芳基可任选地被进一步取代。