[发明专利]一种镀膜方法、镀膜装置和镀膜生成系统有效
申请号: | 201410062173.6 | 申请日: | 2014-02-24 |
公开(公告)号: | CN103866260B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 艾青南;潘梦霄;周贺;李跃 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;G01B11/06 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,陈源 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种镀膜方法、镀膜装置和镀膜生成系统。该镀膜方法,对置于镀膜腔室内载台上的待镀基板进行镀膜,该方法包括采集腔室内壁上的镀膜厚度数据;对镀膜厚度数据进行处理,以获取腔室内壁上的膜层的厚度。该镀膜方法通过采集腔室内壁上的镀膜厚度数据;对镀膜厚度数据进行处理,以获取腔室内壁上的膜层的厚度,使得镀膜装置的清洁更加智能化,消除了现有技术中清洁需要人为控制的麻烦,从而提高了镀膜装置的清洁效率。该镀膜生成系统通过采用该镀膜装置,使镀膜生成系统的清洁更加智能化,从而大大提高了镀膜生成系统的清洁和运作效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀膜 方法 装置 生成 系统 | ||
【主权项】:
一种镀膜方法,对置于镀膜腔室内载台上的待镀基板进行镀膜,其特征在于,所述方法包括:采集所述腔室内壁上的镀膜厚度数据,所述腔室内环绕所述载台的内壁上设置有遮挡板,所述遮挡板上表面设置有采样块;所述采集所述腔室内壁上的镀膜厚度数据包括:采用光反射法采集所述遮挡板上表面的所述采样块的所述镀膜厚度数据,所述遮挡板与所述载台的顶面平行;且所述采样块采用透明玻璃制成;对所述镀膜厚度数据进行处理,以获取所述腔室内壁上的膜层的厚度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的