[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201410062665.5 | 申请日： | 2014-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN103852946B | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 蔡振飞;陈正伟 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 230011 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够使得与隔垫物相接触的薄膜层的厚度均一化。该阵列基板包括显示区域和非显示区域；非显示区域包括横纵交叉的栅线和数据线以及薄膜晶体管所在的区域，栅线和数据线通过对间隔排列的靶材进行磁控溅射然后进行图案化工艺而形成；在非显示区域的对应于靶材间隔区域的区域中形成有衬垫结构，对应靶材间隔区域形成的金属薄膜层与衬垫结构的厚度之和与对应靶材正对区域形成的金属薄膜层的厚度相等。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括显示区域和非显示区域；所述非显示区域包括横纵交叉的栅线和数据线以及薄膜晶体管所在的区域，所述栅线和所述数据线通过对间隔排列的靶材进行磁控溅射形成金属薄膜层并对所述金属薄膜层进行图形化而形成；其特征在于，所述非显示区域的对应于所述靶材间隔区域的区域中形成有衬垫结构，所述衬垫结构由构成所述薄膜晶体管的至少一层薄膜层构成；所述对应所述靶材间隔区域形成的所述金属薄膜层与所述衬垫结构的厚度之和与对应所述靶材正对区域形成的所述金属薄膜层的厚度相等。
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