[发明专利]新青霉素晶体制剂及其制备方法

摘要

本发明公开了一种新青霉素晶体制剂及其制备方法，该制备方法包括如下步骤：步骤1，将新青霉素粗品溶解于甲醇和甲乙酮混合溶剂中，加活性炭吸附并进行过滤，将滤液进行降温析出晶体，晶体用甲醇和甲乙酮混合溶液洗涤，通过减压干燥得到第一次精制新青霉素产品。步骤2，将第一次精制新青霉素产品溶解于热甲乙酮溶液中，用高效过滤器压滤，混合液进行降温减压浓缩，再冷却析出晶体，过滤，减压干燥得到新青霉素晶体制剂。本发明的新青霉素晶体制剂具有颗粒小、粒径分布均匀、流动性好、结晶工艺简单、有机溶剂残留量低、稳定性高、安全性好、毒副作用小、不易过敏等优点。

主权项

一种新青霉素晶体，其特征在于：所述新青霉素晶体采用X‑射线粉末衍射测定，其图谱具有下列2θ衍射角和D值，误差为±0.2°；其中2θ衍射角依次为6.6°，9.8°，11.5°，14.2°，16.3°，17.8°，18.2°，19.5°，20.8°，21.6°，22.3°，22.9°，23.6°，24.1°，25.3°，27.8°，28.8°和30.5°，D值依次为12.43，9.26，7.78，6.21，5.28，5.01，4.84，4.57，4.45，4.27，4.12，3.97，3.89，3.78，3.68，3.52，3.30，3.21，3.09和2.93。