[发明专利]一种用于太阳能硅片制造的清洗液无效
| 申请号： | 201410075280.2 | 申请日： | 2014-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN103952246A | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 李新家;贾明 | 申请（专利权）人： | 西安通鑫半导体辅料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/60 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 徐文权 |
| 地址： | 710300 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于太阳能硅片制造的清洗液，由非离子表面活性剂，阴离子表面活性剂，金属离子络合剂，缓蚀剂和余量去离子水组成。本发明清洗液呈中性，pH值为6～8，不含磷，铬添加剂，使用量少，对硅片无过腐蚀，清洗污垢快，成本低，对硅片表面的洗涤性能高，清洗成品合格率在99%以上，对接触的操作人员无毒害腐蚀伤害，使用安全，适用于自动超声波清洗生产线。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 太阳能 硅片 制造 清洗 | ||
【主权项】：
一种用于太阳能硅片制造的清洗液，其特征在于：按质量百分比计包括1～10%的非离子表面活性剂，1～10%的阴离子表面活性剂，0.5～5%的金属离子络合剂，0.5～5%的缓蚀剂，余量为去离子水。
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