[发明专利]微米级锥形阵列结构的激光成型方法有效
申请号: | 201410076831.7 | 申请日: | 2014-03-04 |
公开(公告)号: | CN103934580B | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 申万 | 申请(专利权)人: | 中国神华能源股份有限公司;神华科学技术研究院有限责任公司 |
主分类号: | B23K26/50 | 分类号: | B23K26/50;B23K26/60;B23K26/14 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人: | 吴贵明,张永明 |
地址: | 100011 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种微米级锥形阵列结构的激光成型方法,包括,步骤10,清洗和/或打磨待加工的原材料的表面;步骤20,使用激光器照射原材料的表面的一个位置;步骤30,激光束斑在原材料的表面移动,照射原材料的表面的另一位置;步骤40,反复进行步骤20至步骤30,照射原材料所有需要生成锥形结构的表面,使原材料的表面形成阵列式排列的锥形结构。应用本发明的技术方案,使用激光作为快速成型的手段,可以迅速在材料表面生成锥形阵列结构,技术相对简单且成本低,重复性高。 | ||
搜索关键词: | 微米 锥形 阵列 结构 激光 成型 方法 | ||
【主权项】:
一种微米级锥形阵列结构的激光成型方法,其特征在于,包括,步骤10,清洗和/或打磨待加工的原材料的表面;步骤20,使用激光器输出的单束激光束照射所述原材料的表面的一个位置,所述步骤20中,以原材料表面为0度平面,垂直于原材料表面的法线方向为90度,所述激光束在10度至80度之间的预定角度照射到原材料表面;步骤30,激光束斑在所述原材料的表面移动,照射所述原材料的表面的另一位置;步骤40,反复进行步骤20至步骤30,照射所述原材料所有需要生成锥形结构的表面,使所述原材料的表面形成阵列式排列的锥形结构。
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