[发明专利]输送装置有效
| 申请号： | 201410077512.8 | 申请日： | 2014-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN104427193B | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 莳田圣吾;古谷孝男;细井清;坂卷克己;蜂须贺正树 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | H04N1/04 | 分类号： | H04N1/04;H04N1/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 何立波;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种输送装置，其介质的面相对于对该面进行处理的处理单元的位置，即使介质的厚度不同，也难以发生变动。第1接触部件（11）位于处理区域（E1）的输送方向（A1）的上游侧，具有与输送的介质（P）的第1面接触的第1接触部（C11）。第2接触部件（12）位于处理区域的输送方向的下游侧，具有与输送的介质（P）的第1面接触的第2接触部（C12）。第3接触部件（21）位于第1接触部（C11）的输送方向的上游侧，具有与输送的介质的第2面接触的第3接触部（C21）。第4接触部件（22）位于第2接触部（C12）的输送方向的下游侧，具有与输送的介质（P）的第2面接触的第4接触部件（22）。 | ||
| 搜索关键词： | 输送 装置 | ||
【主权项】：
1.一种输送装置，其具有：第1接触部件，其具有与所输送的介质接触的第1接触部；第2接触部件，其位于输送方向的下游侧，具有与所输送的所述介质接触的第2接触部，所述第1接触部和所述第2接触部具有一致的切平面；输送单元，其在夹在所述第1及第2接触部之间的区间内，使所述介质的第1面与所述切平面一致而进行输送；以及处理单元，其配置在所述第1及第2接触部之间，对正在通过该区域的所述介质的第1面进行处理，所述输送装置具有接触单元，其与该介质的与所述第1面相反一侧的第2面接触，所述接触单元在第1位置和第2位置处与所述第2面进行接触，所述接触单元具有：第3接触部件，其具有在所述第1位置处与所输送的所述介质接触的第3接触部，该第3接触部位于所述第1接触部的输送方向的上游侧；以及第4接触部件，其具有在所述第2位置处与该介质接触的第4接触部，该第4接触部位于所述第2接触部的输送方向的下游侧。
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