[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 201410079015.1 | 申请日： | 2014-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN104073766B | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 酒见俊之 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 温旭;郝传鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜装置，其能够降低因成膜对象物的位置产生的膜质的偏差。本发明的成膜装置（1）具备向真空腔室（10）内供给原料气体（在此为氧气）的原料气体供给部（30），并且具备对成膜对象物（11）局部地供给比原料气体活化的活化气体的活化气体供给部（40）。其中，通过成膜对象物（11）与沉积部（2）的位置关系，有时在成膜对象物（11）中的一部分中，与其他部分相比供给到膜中的氧变少。对于膜中的氧变少的部分，通过活化气体供给部（40）局部地供给氧的活化气体，从而能够弥补膜中的氧。因此，能够降低因成膜对象物（11）的位置产生的膜中的氧的偏差。综上，能够降低因成膜对象物（11）的位置产生的膜质的偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜对象物 活化气体 成膜装置 供给部 膜质 原料气体供给部 供给原料 原料气体 真空腔室 活化 沉积 氧气 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其在真空腔室内使成膜材料的粒子沉积于成膜对象物，该成膜装置具备：成膜对象物配置部，能够在所述真空腔室内配置所述成膜对象物；沉积部，使所述成膜材料的粒子沉积于所述成膜对象物；原料气体供给部，向所述真空腔室内供给原料气体；及活化气体供给部，对配置于所述成膜对象物配置部的所述成膜对象物局部地供给比所述原料气体活化的活化气体；其中，所述沉积部具备：多个等离子源，在所述真空腔室内生成等离子射束；多个主炉缸，作为填充有所述成膜材料并向所述成膜材料导入所述等离子射束或导入有所述等离子射束的主阳极；及多个环炉缸，配置于所述主炉缸的周围并作为引导所述等离子射束的辅助阳极；其中，从所述原料气体供给部供给的所述原料气体，被导入到所述成膜材料内的所述等离子射束或导入到所述主炉缸内的所述等离子射束活化，所述活化气体供给部向配置于所述成膜对象物配置部的所述成膜对象物中的、从所述成膜材料的粒子的照射方向观察时相互邻接的所述主炉缸之间的位置供给所述活化气体。
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