[发明专利]曝光装置及曝光系统

摘要

本发明公开了一种曝光装置，包括：基台，其上设置有支撑部，支撑部上支撑放置待曝光基板；支架，用于安装掩膜版；光源系统，提供曝光光线，曝光光线经由掩膜版照射到待曝光基板上，将掩膜版的图案光刻到基板上；支撑部的高度由待曝光基板放置区域的外围朝向该区域的中心逐渐减小，使得基板待曝光区域各个位置的曝光间距相同。本发明通过调整大尺寸接近式曝光装置基台上支撑部的高度，实现接近式曝光过程中，待曝光基板的弯曲度与掩膜版的弯曲度一致，从而使得待曝光基板上不同位置的曝光间距相同，能够避免普通基台曝光时因掩膜版弯曲导致曝光间距不均一造成图形尺寸不均一的问题，而且能够降低待曝光基板中间部分异物划伤掩膜版的风险。

主权项

一种曝光装置，包括：基台，其上设置有支撑部，所述支撑部上支撑放置待曝光基板；支架，其上用于安装掩膜版；光源系统，提供曝光光线，曝光光线经由掩膜版照射到待曝光基板上，将所述掩膜版的图案光刻到所述基板上；其特征在于，所述支撑部的高度由待曝光基板放置区域的外围朝向该区域的中心逐渐减小，使得所述基板待曝光区域各个位置的曝光间距相同。