[发明专利]沉积设备、有机发光显示设备及其制造方法有效
申请号: | 201410085414.9 | 申请日: | 2014-03-10 |
公开(公告)号: | CN104347667B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 孙镇石 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;杨莘 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 沉积设备包括:衬底结合单元,被配置成将衬底设置在包括表面的移动单元上;第一阻挡构件结合单元,被配置成抬起第一阻挡构件;第一沉积单元,包括一个或多个沉积组件,该一个或多个沉积组件被配置成将材料沉积在衬底上;第一阻挡构件分离单元,被配置成从移动单元朝下分离第一阻挡构件;以及第一输送单元,被配置成在第一方向上输送移动单元,其中一个或多个沉积组件与衬底相隔预定距离,以便在第一方向上输送移动单元期间在第一沉积单元中将材料沉积在衬底上。 | ||
搜索关键词: | 沉积 设备 制造 有机 发光 显示装置 方法 以及 使用 显示器 | ||
【主权项】:
1.一种沉积设备,包括:衬底结合单元,被配置成在移动单元的用于固定衬底的表面面朝上时将所述衬底设置在所述移动单元上;第一阻挡构件结合单元,被配置成抬起第一阻挡构件并且将所述第一阻挡构件与包括被固定的所述衬底的所述移动单元结合,所述移动单元处于固定有所述衬底的表面面朝下的状态,其中,所述衬底包括非层形成区域,所述第一阻挡构件暴露所述衬底的除了所述非层形成区域之外的整个表面;第一沉积单元,包括一个或多个沉积组件,所述一个或多个沉积组件被配置成在所述第一阻挡构件与包括被固定的所述衬底的所述移动单元结合的状态下将材料沉积在所述衬底上;第一阻挡构件分离单元,被配置成从包括被固定的所述衬底的所述移动单元朝下分离所述第一阻挡构件,所述移动单元处于固定有所述衬底的所述表面面朝下的状态;第一输送单元,被配置成在第一方向上输送包括被固定的所述衬底的所述移动单元,使得包括被固定的所述衬底的所述移动单元从所述衬底结合单元按顺序通过所述第一阻挡构件结合单元和所述第一沉积单元被输送至所述第一阻挡构件分离单元;以及第一阻挡构件输送单元,用于将通过所述第一阻挡构件分离单元分离的所述第一阻挡构件返还至所述第一阻挡构件结合单元,其中所述一个或多个沉积组件与所述衬底相隔预定距离,使得当所述移动单元在所述第一方向上被输送时,所述材料在所述第一沉积单元中被沉积在所述衬底上;以及其中所述第一阻挡构件输送单元被设置在所述第一输送单元的下方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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