[发明专利]网板曝光机监控系统有效

专利信息
申请号: 201410088620.5 申请日: 2014-03-12
公开(公告)号: CN104914676B 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 詹文清;罗志雄 申请(专利权)人: 旺昌机械工业(昆山)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海光华专利事务所31219 代理人: 余明伟
地址: 215334 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种网板曝光机监控系统,用于监控网板曝光机的曝光装置的工作状态,包括设定曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程,并透过持续侦测所述曝光装置中的光学元件的即时光功率(mW),俾于分析所述侦测到的即时光功率(mW)值与所述曝光参数值不吻合,即可依据设定的异常处理操作流程执行相应的操作,从而达到可在后续轻易筛选出曝光不良品并分析导致曝光不良的原因的目的,同时还能透过控制所述曝光装置自动调整工作状态,以减少曝光不良品的产生,从而提高生产效率。
搜索关键词: 曝光 监控 系统
【主权项】:
一种网板曝光机监控系统,应用于具有曝光装置的网板曝光机,用于监控所述网板曝光机的曝光装置的工作状态,其特征在于,所述系统包括:曝光监控模块,具有:曝光参数设定单元,用于提供设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程;曝光侦测器,设于所述网板曝光机的曝光装置中,且所述曝光装置还具有光学元件,所述曝光侦测器用于持续地侦测所述光学元件的即时光功率,并输出所侦测的即时光功率值;及曝光分析单元,用于收集所述曝光侦测器所输出的所述光学元件的即时光功率值,并于分析所述输出的即时光功率值与所述曝光参数设定单元所设定的曝光参数值不吻合时,输出异常信号;其中,所述曝光参数设定单元还提供二次曝光的功能设定,且所述光学元件的光路径中设有一可动式滤片,所述曝光分析单元依据曝光参数设定单元所设定的二次曝光的功能,于曝光作业中,使光学元件提供预定波长,待一预定时间后,控制所述滤片的移动来调整所述光学元件所提供的所述预定波长,而达到以单一波长进行多重波长的曝光;以及异常处理模块,于接收到所述曝光分析单元所输出的异常信号时,依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。
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