[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

摘要

本发明提供在基板的干燥时能够使表面上的液体瞬时干燥的基板处理装置和基板处理方法。在基板处理装置（10）中包括对基板（W）的表面进行干燥的加热干燥机构（103），上述加热干燥机构（103）从下侧对基板（W）的在铅垂方向上朝向下方配置的表面进行加热，使通过加热作用在基板（W）的表面生成的挥发性溶剂的液珠利用重力落下除去，对基板的表面进行干燥。

主权项

一种基板处理装置，其包括基板清洗室和基板干燥室，其特征在于：基板清洗室包括：以使具有图案的被处理的表面朝向上的方式保持基板并使其旋转的第一工作台；向旋转的所述基板的所述表面供给清洗液的清洗液供给部；和溶剂供给部，其向被供给有所述清洗液的所述基板的所述表面供给挥发性溶剂，并将所述基板的所述表面上的所述清洗液置换为所述挥发性溶剂，基板干燥室包括：以使具有所述图案的被处理的所述表面朝向下的方式保持所述基板的第二工作台；加热干燥机构，其具有配置在该第二工作台的下方并且向上方照射在波长500nm～3000nm之间包括峰值强度的光的灯、和在该灯的上部覆盖保护所述灯的保护罩，对朝向下的且在所述基板清洗室中被供给有所述挥发性溶剂的、所述基板中的被处理的所述表面进行加热，从所述基板的朝向下的所述表面除去所述挥发性溶剂，对所述基板的所述表面进行干燥；第一喷嘴，其设置在所述基板与所述加热干燥机构之间且比所述加热干燥机构的外周靠外侧的位置，从所述保护罩的外侧向所述保护罩吹出不活泼气体。