[发明专利]一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法

摘要

本发明一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法，该光刻照明系统包括微反射镜阵列和微透镜阵列，具体过程为：将设计光源和目标光源之间的均方根误差作为误差函数；同时改变所有光斑中心点在光瞳平面的位置；计算位置改变前后误差函数的变化量；基于模拟退火算法对所述变化量进行判断，确定所有光斑中心点在光瞳平面的位置；每次只改变一个光斑中心点在光瞳平面的位置，按照上述方式执行，直至所有光斑中心点在光瞳平面的位置都优化完为止；根据当前获得的所有光斑中心点在光瞳平面的位置，调节微反射镜的倾斜角，获取与目标光源相近的光刻照明光源。本发明根据优化后的位置调整所有微反射镜阵列的倾角精确实现所需要的目标光源。

主权项

一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法，该光刻照明光源包括微反射镜阵列和微透镜阵列，其特征在于，具体过程为：步骤一、将设计光源和目标光源之间的均方根误差作为误差函数；步骤二、同时改变所有光斑中心点在光瞳平面的位置；步骤三、计算位置改变前后误差函数的变化量；基于模拟退火算法对所述变化量进行判断，确定所有光斑中心点在光瞳平面的位置；步骤四、判断重复执行步骤二和步骤三的次数是否达到设定次数，若是，则进入步骤五，否则返回步骤二；步骤五、选定一个光斑；步骤六、改变选定光斑中心点在光瞳平面的位置，计算位置改变前后误差函数的变化量；基于模拟退火算法对所述变化量进行判断，确定所有光斑中心点在光瞳平面的位置；步骤七、判断所选定光斑位置改变的次数是否达到预定次数，若是，则步骤五所选定的光斑优化结束，此时进入步骤八，否则，改变选定光斑中心点在光瞳平面的位置并返回步骤六；步骤八、重新选定一个光斑，按照步骤六至步骤七的方式执行，直至所有光斑中心点在光瞳平面的位置都优化完为止；步骤九、根据当前获得的所有光斑中心点在光瞳平面的位置，调节微反射镜的倾斜角，获取与目标光源相近的光刻照明光源。