[发明专利]一种提高分立式微变形镜填充因子的方法有效
申请号: | 201410103225.X | 申请日: | 2014-03-19 |
公开(公告)号: | CN103837981A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 汪为民;周崇喜;李国俊;王强;邱传凯;岳衢 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;G02B26/06 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 成金玉;顾炜 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种提高分立式微变形镜填充因子的方法,包括一个微缩束镜阵列和一个分立式微变形镜。其特征在于微缩束镜阵列与分立式微变形镜具有相同的单元间距,入射光经过微缩束镜阵列之后被分割并缩束,形成一个光斑阵列,再入射到变形镜表面,阵列中各光斑均投射到变形镜相应单元,各单元根据入射光像差进行相应的校正,使光斑阵列反射回去重新通过微缩束镜阵列扩束合成,实现像差校正。系统填充因子从分立式微变形镜的填充因子提高到了微缩束镜阵列的填充因子。本发明通过分立式微变形镜与微缩束镜阵列的配合解决了变形镜填充因子较低的问题,并相对于现有单一微透镜阵列与分立式微变形镜配合技术克服了引入像差及倾斜像差无法校正的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 分立 式微 变形 填充 因子 方法 | ||
【主权项】:
一种提高分立式微变形镜填充因子的方法,其特征在于:包括一个微缩束镜阵列(1)和一个分立式微变形镜(2),微缩束镜阵列(1)和分立式微变形镜(2)具有相同的单元间距,入射光经过微缩束镜阵列(1)之后被分割并缩束,形成一个光斑阵列,阵列中单个光斑的口径与微缩束镜阵列(1)单个单元口径的比值即微缩束镜阵列(1)的缩束比;该光斑阵列再入射到分立式微变形镜(2)表面,阵列中每个光斑均投射到分立式微变形镜(2)的相应单元,分立式微变形镜的各单元根据入射光像差进行相应的校正变形,使光斑阵列反射回去重新通过微缩束镜阵列(1)从而扩束合成,实现了像差校正;入射光由于被微缩束镜阵列(1)缩束而可匹配于分立式微变形镜(2)的单元口径,整个系统的填充因子从分立式微变形镜(2)的填充因子提高到了微缩束镜阵列(1)的填充因子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410103225.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。