[发明专利]一种优化等离子体均匀性的压力控制阀门及方法

摘要

本发明提供一种利用腔体真空分步控制以优化电浆均匀性的方法，包括：采用将双阀门压力控制阀门和分子泵垂直安置于反应腔体下方的设置，在对腔体进行抽气式，打开双阀门使腔体内抽气气流均匀，从而达到使等离子电浆均匀的目的。通过本发明的一种压力控制阀门与一种优化等离子体均匀性的方法能够改进真空腔体中等离子体的均匀性，解决电浆对晶圆反应的不均匀性问题。

主权项

一种压力控制阀门，应用于半导体工艺制程的等离子体设备中，其特征在于，所述压力控制阀门包括第一子阀门、第二子阀门和轴；所述第一子阀门为中空结构，所述第二子阀门内嵌于所述第一子阀门中，且所述第一子阀门和所述第二子阀门的平面图形均为轴对称图形；所述第一子阀门和所述第二子阀门的对称轴均设置于所述轴上；以及将所述第一子阀门或所述第二子阀门绕所述对称轴旋转以开启一预设角度，当压力变化至所需的压力值时再将所述第一子阀门和所述第二子阀门中的另一个绕所述对称轴旋转以开启与所述预设角度相反的角度。