[发明专利]一种高真空磁控轴瓦溅镀机有效
申请号: | 201410107256.2 | 申请日: | 2014-03-21 |
公开(公告)号: | CN104928634B | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
发明(设计)人: | 木俭朴 | 申请(专利权)人: | 烟台大丰轴瓦有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙)37234 | 代理人: | 刘志毅 |
地址: | 261400 山东省烟*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种高真空磁控轴瓦溅镀机,涉及溅渡装置技术领域,结构包括溅渡壳体,溅渡壳体内设有溅渡腔,溅渡腔设有溅射靶和轴瓦支撑架,溅渡壳体底部设有底座,底座上设有溅射靶架旋转轴,溅射靶架旋转轴固定设有用来活动放置溅射靶的溅射靶支撑架,所述溅射靶为双面靶,正面为镍靶、背面为合金靶,溅射靶支撑架中间固定连接有溅射靶架旋转轴,两侧边缘为凹凸锯齿状,在所述底座7上还设有挡板10,所述挡板边缘设有与溅射靶支撑架3两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状,所述轴瓦支撑架包括轴瓦支架旋转轴和活动装设在轴瓦支架旋转轴上用来悬挂轴瓦的挂柱,本种溅镀方式是安全环保的,通过设置可旋转的两面靶,解决以往受降温以及更换靶材等步骤制约,增加了工作产量、提高了效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 轴瓦 溅镀机 | ||
【主权项】:
一种高真空磁控轴瓦溅镀机,包括溅镀壳体(1),溅镀壳体(1)内设有溅镀腔(8),所述溅镀腔(8)设有溅射靶(2)和轴瓦支撑架(4),所述溅镀壳体(1)底部设有底座(7),其特征在于:在所述底座(7)上设有溅射靶架旋转轴(6),所述溅射靶架旋转轴(6)固定设有用来活动放置溅射靶(2)的溅射靶支撑架(3),所述所述溅射靶(2)为双面靶,正面为镍靶、背面为合金靶,所述溅射靶支撑架(3)中间固定连接有溅射靶架旋转轴(6),两侧边缘为凹凸锯齿状,在所述底座7上还设有挡板(10),所述挡板(10)边缘设有与溅射靶支撑架(3)两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状,所述轴瓦支撑架(4)包括轴瓦支架旋转轴(5)和活动装设在轴瓦支架旋转轴(5)上用来悬挂轴瓦的挂柱(9),在所述底座(7)下方设有电机,所述溅射靶架旋转轴(6)和轴瓦支架旋转轴(5)各独自连接一个电机,所述每两根轴瓦支架旋转轴(5)由一个挡板(10)和挡板(10)两侧边缘各垂直紧靠一个溅射靶支撑架(3)以及溅镀壳体(1)围绕着,所述每两根轴瓦支架旋转轴(5)转向相反,所述溅射靶架旋转轴(6)转向为顺时针,所述溅镀壳体(1)顶部设置有液压装置(11),所述液压装置(11)通过圆杆贯穿溅镀壳体(1)顶面连接一个设置在溅镀壳体(1)内部的圆形密封盖(12)。
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