[发明专利]监测方法有效

专利信息
申请号: 201410109846.9 申请日: 2014-03-24
公开(公告)号: CN103887202A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 周建华;刘巍 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明揭露了一种监测方法,用于用于在线监测SiGe结构和STI界面性能。所述监测方法通过形成结面积相同的边缘型PN结和面积型PN结,量测出两者的漏电流,通过数据比对和分析得到SiGe结构和STI的界面的状态。这样,可以直接通过监测SiGe结构和STI的界面的漏电流来监测SiGe结构和STI的界面的状态。从而实现对线上产品的实时监测,无需等到问题产生再进行TEM切片来研究界面是否正常,大大提高了产品良率。
搜索关键词: 监测 方法
【主权项】:
一种监测方法,用于在线监测SiGe结构和STI界面性能,所述监测方法包括:设计SiGe结构与N型阱形成的面积型PN结的版图;设计多个边缘型PN结并联结构,所述多个边缘型PN结的结面积与所述面积型PN结的结面积相同;在器件制造过程中在衬底上形成所述边缘型PN结和面积型PN结;在线测量两种PN结的漏电流并记录;进行归一化计算,分别计算出面积型PN结归一化电流ILAP和边缘型PN结归一化电流ILEP;计算归一化电流之差ΔIL,ΔIL=ILAP‑ILEP;进行ILAP、ILEP及ΔIL的数据分析,判断SiGe结构和STI的界面性能。
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