[发明专利]一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法有效
| 申请号： | 201410112684.4 | 申请日： | 2014-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN103897607A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 高玉强;梁庆瑞;王希杰;李印 | 申请（专利权）人： | 山东天岳晶体材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B29/00 |
| 代理公司： | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人： | 苗峻 |
| 地址： | 250118 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种碳化硅用机械抛光液及采用其进行机械抛光的方法，以金刚石微粉和氧化铝微粉为磨料，与水和分散剂配制而成的抛光液对大直径高硬度的碳化硅进行机械抛光，能够减少显微镜下碳化硅晶片的可见划痕数目，获得粗糙度小、平整度高、表面损伤小的碳化硅晶片表面，为后续进行化学机械抛光提供条件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 机械抛光 采用 进行 方法 | ||
【主权项】：
一种碳化硅用机械抛光液，其特征在于：以金刚石微粉和氧化铝微粉为磨料，与水和分散剂配制而成，所述抛光液中水：分散剂：金刚石微粉：氧化铝微粉的质量比为1:0.1:0.2:0.02‑0.2。
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