[发明专利]提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法无效
| 申请号： | 201410113763.7 | 申请日： | 2014-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN103997842A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 章程;邵涛;杨文晋;周中升 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 关玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003～0.007L/min。本发明可使等离子体射流阵列具有最优的空间均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 大气压 等离子体 射流 阵列 空间 均匀 方法 | ||
【主权项】：
一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003～0.007L/min。
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