[发明专利]一种纳米银离子真空高能束流电镀工艺有效

专利信息
申请号: 201410119189.6 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN103898464A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 李加根;李江 申请(专利权)人: 南昌市婧麒服饰有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/14;B22F9/24
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人: 黄冠华
地址: 330000 江西省南*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开一种纳米银离子真空高能束流电镀工艺,包括以下步骤:A、将银盐和保护剂加入水中,再加入碱性溶剂调节pH值,使pH值处于7.5~11;B、加入还原剂,加热搅拌反应得到纳米银离子;C、向真空室内通入一定压力的氩气,将基材在所述真空室内利用等离子体或离子源设备进行轰击处理;D、将步骤B得到的所述纳米银离子加入到所述真空室内,对所述基材进行真空磁控溅射,同时利用高能束流经透镜聚焦后投射到基材表面,完成电镀。本发明工艺简单,通过化学还原法制备得到纳米银离子,再通过真空磁控溅射将纳米银离子镀到基材上,高能束流经透镜聚焦投射到基材表面,使银离子渗透到疏松的基材内部,加速离子迁移,增加电镀速率。
搜索关键词: 一种 纳米 银离子 真空 高能 流电 工艺
【主权项】:
一种纳米银离子真空高能束流电镀工艺,其特征在于,包括以下步骤:A、将银盐和保护剂加入水中,再加入碱性溶剂调节PH值,使PH值处于7.5~11;B、加入还原剂,加热搅拌反应得到纳米银离子;C、向真空室内通入一定压力的氩气,将基材在所述真空室内利用等离子体或离子源设备进行轰击处理;D、将步骤B得到的所述纳米银离子加入到所述真空室内,对所述基材进行真空磁控溅射,同时利用高能束流经透镜聚焦后投射到基材表面,完成电镀。
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