[发明专利]一种肖特基单触发开关集成EFI芯片单元及爆炸箔起爆装置无效

专利信息
申请号: 201410120549.4 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN103868422A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 朱朋;沈瑞琪;叶迎华;胡博;吴立志;胡艳 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: F42D1/045 分类号: F42D1/045
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 朱显国
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种肖特基单触发开关集成EFI芯片单元及爆炸箔起爆装置。所述肖特基单触发开关集成EFI芯片单元包括:Si3N4的硅基底、金属Ti/Cu层、聚酰亚胺层、上电极Ti/W/Ti/Cu/Au和肖特基二级管,所述爆炸箔起爆装置包括肖特基单触发开关集成EFI芯片单元、飞片、加速膛、炸药柱、印制电路板底座、传输线、低压贴片电容、高压贴片电容。本发明与现有技术相比,其显著优点在于金属Ti/Cu层在肖特基单触发开关单元中作下电极,在爆炸箔起爆单元中作爆炸箔,聚酰亚胺层在肖特基单触发开关单元中作上下电极间的绝缘层,在爆炸箔起爆单元中作爆炸箔起爆器的飞片层,减少了工艺流程,成本低,体积小;肖特基二极管具有反向击穿特性,使开关能够抗杂散电流,具有本质的安全性。
搜索关键词: 一种 肖特基单 触发 开关 集成 efi 芯片 单元 爆炸 起爆 装置
【主权项】:
一种肖特基单触发开关集成EFI芯片单元,其特征是:所述单元包括Si3N4的硅基底(1)、金属Ti/Cu层(2)、聚酰亚胺层(3)、上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4)和肖特基二级管(5);所述Si3N4的硅基底(1)上设置金属Ti/Cu层(2),所述金属Ti/Cu层(2)分为下电极区和桥箔区,所述下电极区为矩形结构,桥箔区为两端宽中间窄的桥型结构,窄的部分为爆炸箔(6),宽的一端与下电极区相连,所述金属Ti/Cu层(2)上设置聚酰亚胺层(3),所述聚酰亚胺层(3)完全覆盖下电极区及部分桥箔区,使未与下电极区相连的桥箔区宽的一端金属铜层裸露,所述下电极区聚酰亚胺层(3)上设置上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4),上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4)上设置肖特基二级管(5),所述下电极区以及设置在其上的聚酰亚胺层(3)、上电极Ti/W/Ti/Cu/Au(4)和肖特基二级管(5)构成单触发开关单元。
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