[发明专利]污染物测量基底、设备及使用该设备制造基底的方法有效
| 申请号： | 201410120749.X | 申请日： | 2014-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN104345023B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 朴钟秦 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | G01N15/10 | 分类号： | G01N15/10 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩芳;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种污染物测量基底、设备及使用该设备制造基底的方法。用于制造基底的设备包括：室，提供在其中执行工艺的空间；污染物测量基底，包括被构造为收集污染物的基础材料以及位于基础材料上并限定基础材料的坐标的激光标记；第一平台，设置在室内，污染物测量基底在室的污染物的收集期间被安置在第一平台上；第二平台，设置在室的外侧，污染物测量基底在收集在污染物测量基底上的室的污染物的测量期间被安置在第二平台上；污染物测量光源，设置在第二平台的上部，并且被构造为在收集在污染物测量基底上的室的污染物的测量期间利用光照射安置在第二平台上的污染物测量基底。 | ||
| 搜索关键词： | 污染物 测量 基底 设备 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造基底的设备，所述用于制造基底的设备包括：室，提供在其中执行工艺的空间；污染物测量基底，包括被构造为收集污染物的基础材料以及位于基础材料上并限定基础材料的坐标的激光标记；第一平台，设置在室内，污染物测量基底在室的污染物的收集期间被安置在第一平台上；第二平台，设置在室的外侧，污染物测量基底在收集在污染物测量基底上的室的污染物的测量期间被安置在第二平台上；以及污染物测量光源，设置在第二平台的上部，并且被构造为在收集在污染物测量基底上的室的污染物的测量期间利用光照射安置在第二平台上的污染物测量基底。
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