[发明专利]一种提升紫外LED外延材料结晶质量的生长方法有效

专利信息
申请号: 201410123663.2 申请日: 2014-03-28
公开(公告)号: CN103887381B 公开(公告)日: 2017-03-29
发明(设计)人: 王晓波 申请(专利权)人: 西安神光皓瑞光电科技有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司61211 代理人: 胡乐
地址: 710100 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明是一种新的生长紫外LED的外延方法,能够明显改善紫外LED外延生长材料的结晶质量,提升紫外LED的发光强度。本发明采用Al组分渐变方法在AlN中间掺入,能逐步释放来自衬底层的晶格适配的应力,渐变组分生长能使界面的晶格适配的缺陷减小,提升材料界面的晶体质量,同时渐变生长能够滑移位错,使得穿透位错偏析,很好的阻挡穿透位错进入量子阱区,并且为生长量子阱提供非常好的基底,并且极大的减小了由于晶格适配产生的应力对量子阱生长的影响,提升了材料的整体结晶质量,使得量子阱层的电子空穴波函数空间交叠增强,提升了紫外LED整体的光电特性。
搜索关键词: 一种 提升 紫外 led 外延 材料 结晶 质量 生长 方法
【主权项】:
一种提升紫外LED外延材料结晶质量的生长方法,包括以下步骤:(1)以蓝宝石作为生长基底,生长低温AlN层;(2)生长高温AlN层;(3)生长若干个周期的超薄AlGaN/AlN层,具体是每个周期先以Al组分渐变减小的方式生长1‑3nm,再以Al组分渐变增大的方式生长1‑3nm,然后生长3‑5nm的AlN薄层;(4)生长掺杂硅烷的n型AlGaN层;(5)生长若干个周期的AlxGa1‑xN/AlGaN超晶格层;(6)生长若干个周期的AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN量子阱垒区,x<y;(7)生长掺杂镁p型AlGaN阻挡层;(8)生长掺杂镁p型AlGaN层;(9)生长掺杂镁p型GaN层;(10)在氮气氛围下,退火。
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