[发明专利]一种太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法

摘要

本发明涉及太阳能设备技术领域，尤其涉及一种太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法。该太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法包括：选择基体，将镀膜室内进行抽真空处理；在基体外制备粘结层；在粘结层外制备红外反射层；在红外反射层外制备扩散阻挡层；通过第二金属靶溅射沉积金属层，通过孪生靶反应溅射沉积介质层，金属层和介质层间隔设置形成吸收层；在吸收层外制备减反射层；观察减反射层制备时膜层的颜色，结束镀膜。该太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法在制备吸收层时采用金属粒子和介质粒子交替沉积，可形成具有间隔设置的金属层和介质层的多亚层吸收层，其工艺成本低，可制成可见光吸收率高、红外光谱发射低且高温稳定性强的产品。

主权项

一种太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：S1：选择基体（1），将所述镀膜室内进行抽真空处理，且将镀膜室内设置为初始真空度；S2：向所述镀膜室内通入惰性气体和第一反应气体，且将所述镀膜室内设置为第一压强，通过孪生靶反应溅射在所述基体（1）外制备粘结层（21）；S3：停止通入所述第一反应气体，关闭所述孪生靶，将所述镀膜室内设置为第二压强，通过第一金属靶溅射在所述粘结层（21）外制备红外反射层（2）；S4：关闭所述第一金属靶，并打开所述孪生靶，向所述镀膜室内通入所述第一反应气体，且将所述镀膜室内设置为第一压强，通过所述孪生靶反应溅射在所述红外反射层（2）外制备扩散阻挡层（22）；S5：开启第二金属靶，通过所述第二金属靶溅射沉积金属层（5），通过所述孪生靶反应溅射沉积介质层（6），所述金属层（5）和介质层（6）间隔设置形成吸收层（3）；S6：关闭所述第二金属靶，向所述镀膜室通入第二反应气体，将所述镀膜室内设置为第三压强，通过孪生靶反应溅射在所述吸收层（3）外制备减反射层（4）；S7：观察所述减反射层（4）在制备过程中的膜层颜色，当所述膜层颜色由黄变红，最后变蓝时关闭所述孪生靶，且分别关闭所述惰性气体、第一反应气体和第二反应气体，结束镀膜。